加入收藏
|
化工机械网
|
求购信息
产品展示
企业库
资讯频道
技术频道
展会信息
人才交流
会员登录
|
免费注册
那诺-马斯特中国有限公司
主营产品:晶圆清洗机,PECVD,热蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,RIE/反应离子刻蚀机,IBE/离
免费会员
公司首页
产品展示
公司简介
企业荣誉
诚信档案
公司动态
人才招聘
在线咨询
联系方式
您现在的位置:那诺-马斯特中国有限公司 >> 产品展示
http://nanomaster.b2b.chemm.cn
产品系列
>>
更多
 
沉积系统
(16)
进口光学镀膜机
TE热蒸发镀膜系统
E_Beam电子束蒸发系统
磁控溅射系统
PECVD等离子化学气相沉积系统
PLD脉冲激光沉积
刻蚀系统
(9)
RIE反应离子刻蚀系统
ICP及DRIE刻蚀系统
IBE离子束刻蚀系统
RIE_PE刻蚀机
生长系统
(4)
MOCVD设备
ALD原子层沉积系统
MOVPE设备
清洗去胶系统
(7)
等离子去胶清洗及灰化系统
单晶圆掩模版兆声清洗机
大基片清洗去胶湿法刻蚀
离子束清洗系统
表面分析仪器
(3)
探针式表面轮廓仪
联系方式
与我联系时,请说明:
是在“化工机械网”看到的
联系人:张经理
电 话:021-62318025
手 机:17317363700
传 真:021-62318025
地 址:徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号
以下是百度推荐信息
产品展示
KLA P-7 晶圆探针式轮廓仪 台阶仪
TencorP-7探针式轮廓仪为生产和研发(R&D)环节提供了从几纳米到一毫米的台阶高度测量功能。该系统支持对台阶高度、粗糙度、翘...
台阶仪 KLA-D600 高精度探针式轮廓仪
Alpha-StepD-600探针式轮廓仪能够测量从几纳米到1200微米的2D和3D台阶高度。D-600还支持2D和3D的粗糙度测量,以及用于研发和...
台阶仪 KLA-D500 高精度探针式轮廓仪 Alpha-Step D500
Alpha-StepD-500探针式轮廓仪能够测量几纳米到1200微米高的2D台阶。D-500也支持在研发和生产环节中对粗糙度、弯曲度和应力进...
NSC-3500(M)磁控溅射系统
NSC-3500(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套...
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。...
NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统
NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统:台式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴...
磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。...
晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统
LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可...
进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机
SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户...
硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统
SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮...
晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以...
等离子清洗设备 NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)
NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广...
等离子去胶机 NPC-4000(M)等离子去胶机(刻蚀机)
NPC-4000(M)等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的...
薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备
NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足较*膜厚...
ald原子层沉积设备 NLD-4000(M)原子层沉积系统
NLD-4000(M)原子层沉积系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足较*膜厚控制...
MOCVD设备 NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统
NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统...
反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机
NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述:独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式...
等离子体刻蚀 NRE-4000型RIE-PE刻蚀机
NRE-4000型RIE-PE刻蚀机概述:NRE-4000是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈...
离子束刻蚀机 NIE-4000(A)IBE离子束刻蚀
NIE-4000(A)IBE离子束刻蚀产品概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的...
离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统
NIE-4000IBE离子束刻蚀系统概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离...
1
2
下一页
共39条信息,当前显示第1-20条,共2页
免责声明:以上信息由企业自行提供,该企业负责信息内容的真实性、准确性和合法性。化工机械网对此不承担任何保证责任。
公司首页
|
产品展示
|
公司简介
|
企业荣誉
|
公司动态
|
人才招聘
|
在线咨询
|
联系方式
技术支持:化工机械网
那诺-马斯特中国有限公司 版权所有
电话:021-62318025 传真:021-62318025
地址:徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号 邮编:200237