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NANO MASTER(那诺-马斯特)*先进的兆声无损处理设备,主要包含SWC单晶圆/掩模版清洗系列和LSC大基片清洗系列,支持湿法清洗/去胶/刻蚀应用。型号包含SWC-3000,SWC-4000,SWC-5000,LSC-4000,LSC-5000。
清洗及工艺技术
NANO-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及*先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了*的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
为了实现基片无损情况下的*大程度的清洗优化,兆声能量强度必须确保稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NANO-MASTER(那诺-马斯特)的*技术可以确保兆声能量均匀分布于整个基片表面,可以做到分布能量*大化的同时又确保稍低于样片受损阈值,从而实现*理想的清洗效果。
根据不同的应用,某些选配件将会进一步提高设备的能力,达到更好的去除不想要的颗粒和残留物的效果。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及*先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了*的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
为了实现基片无损情况下的*大程度的清洗优化,兆声能量强度必须确保稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NANO-MASTER(那诺-马斯特)的*技术可以确保兆声能量均匀分布于整个基片表面,可以做到分布能量*大化的同时又确保稍低于样片受损阈值,从而实现*理想的清洗效果。
根据不同的应用,某些选配件将会进一步提高设备的能力,达到更好的去处不想要的颗粒和残留物的效果。
单晶圆/掩模版清洗机型号 SWC-4000 和 SWC-3000
应用:
12”外径或7”x7”基片
独立的系统单元
无损兆声,化学试剂,刷子清洗和旋转甩干
微处理器控制
化学试剂分发单元
溶剂和酸分开排放
热氮
30”深 x 26”宽的占地面积
SWC-4000选配项:
台式单元
无损兆声掩模版或晶圆片清洗
12”圆片,9”方片
微处理器控制
IR红外灯
SWC-3000选配项:
掩模版或晶圆片托盘
刷子清洗
化学试剂清洗(CDU)
氮离子发生器
大基片清洗机型号LSC-4000
LSC-4000应用:
21”外径,15”x15”基片
450mm晶圆片
带兆声的大环境腔体
DI,刷子,热N2
化学试剂滴胶臂
带化学试剂滴胶的不同转速的刷子
PC控制的系统,带Labview软件
触摸板用户界面
手动放片取片
安全联锁及报警
30”D x 26”W占地面积
LSC-4000选配项:
化学试剂输送模块
Piranha溶液清洗
臭氧化去离子水(20ppm的O3)
氢化的去离子水
高压去离子水
加热的去离子水
溶剂和酸分开排放
红外加热
去离子水循环器
耐火立柜
带EFM以及SMIF界面的机械手载片/取片