磁控溅射系统

NANO-MASTER(那诺-马斯特)*先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(*高可加热到700度)功能的8"旋转样平台,*大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。带有偏轴磁控管的旋转样品台，提供了*佳的薄膜均匀性。晶振式厚度监测仪提供了系统可以自动终止工艺的能力。

产品特点：

• 向上、向下或侧面溅射

• RF、DC以及脉冲DC溅射

• 共溅射、反应溅射

• 组合溅射

• RF或DC偏压（1000V）

• 样品台可加热到700°C

• 膜厚监测仪

• 基片的RF射频等离子清洗

• 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用：

• NSC-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统

• NSC-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统

• NSC-3000：PC计算机全自动控制的台式系统

• NSC-1000：半自动控制的台式系统

• (以下为双系统型号)

• NSR-4000：溅射/RIE系统

• NSP-4000：溅射/PECVD系统

• NST-4000：溅射/热蒸发系统