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NANO MASTER(那诺-马斯特)提供离子束刻蚀和反应离子束刻蚀,可以应用于表面清洗、表面处理、离子束研墨、光栅刻蚀,以及SiO2,Si及金属的深槽反应离子束刻蚀。型号包含NIE-3000,NIE-3500,NIE-4000。
IBE/RIBE离子束刻蚀/反应离子束刻蚀
如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。
产品特点:
IBM离子铣/RIBE反应离子束刻蚀
产品特点:
产品应用: